，壽命縮短。受***的影響與氫氣的狀況相同建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量小(5W/cm2)。

　　N涂層氨氣(H275%)

、(N225%)與氫氣、氮?dú)獾臓顩r相同。

　　建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用

。表面負(fù)荷盡量小。

　　N涂層分解反應(yīng)氣體(N2

、CO、CO2、H2、CH2混合物)加熱過(guò)程中硅碳棒表面附著分解后的碳黑，造成棒體疏松。

　　經(jīng)常向真空氣氛爐輸送空氣

，讓多余的碳燃燒。在真空氣氛爐構(gòu)造方面，保持硅碳棒間足夠的間隔以防止短路。

　　N涂層硫(S、SO2)硅碳棒溫度升到1300℃以后

，硅碳棒表面被侵蝕、電阻急劇增加。

　　將硅碳棒溫度控制在1300℃以下

。

　　N涂層其他由被處理物產(chǎn)生的各種物質(zhì)，如鉛

、銻、堿金屬的化合物與硅碳棒反應(yīng)，使其壽命縮短。

　　預(yù)先將這些物質(zhì)從處理物中除掉

，真空氣氛爐設(shè)排氣口以便減弱其影響。

　　H涂層S涂層

。